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  • 学习课程
  • 授课教师
  • 课后答题
陆冰
德州仪器系统工程师 德州仪器技术委员会资深委员 (SMTS)
陆冰博士于2006年从弗吉尼亚理工及州立大学获得博士学位并加入德州仪器,专注于AC/DC及隔离DC/DC控制芯片的研发及技术支持。参与并领导了各类电源控制芯片的研发,包括PFC,LLC,同步整流,反激电路,全桥及半桥控制芯片。现为高电压控制器系统工程师及 德州仪器技术委员会资深委员 (SMTS)。
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课程介绍
开关电源中的半导体器件
  • 总章节:6
  • 课程时长:58:52
功率半导体器件是开关电源的重要组成部分,它将电能从一种形式变换为另一种形式。这章课程对功率半导体的基本工作原理进行了介绍。通过对二极管,MOSFET,以及同步整流管的工作原理的分析,我们可以掌握开关电源设计中功率半导体器件的选取,损耗的计算,以及驱动电路的设计。另外,这一章课程还介绍了未来将会流行的宽禁带半导体器件,它们的工作原理,以及相对于现有的硅半导体器件的优势。
  • 学习课程
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陆冰
德州仪器系统工程师 德州仪器技术委员会资深委员 (SMTS)
陆冰博士于2006年从弗吉尼亚理工及州立大学获得博士学位并加入德州仪器,专注于AC/DC及隔离DC/DC控制芯片的研发及技术支持。参与并领导了各类电源控制芯片的研发,包括PFC,LLC,同步整流,反激电路,全桥及半桥控制芯片。现为高电压控制器系统工程师及 德州仪器技术委员会资深委员 (SMTS)。
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00:00
近代半导体技术及其应用
1. 功率器件主要由硅材料制成,可以在几K到几MHz的频率范围内工作,功率最大可达几个千瓦。 2. 随着频率的增加,可支持的功率逐渐减小,频率越低可支持的功率越大。 3. 当硅器件使用超级结时,可以进一步提高功率范围和频率范围。 4. 当功率增加时,传统的MOSFET技术不再适用,需要使用IGBT或者GTO。 5. 宽近代半导体技术的发展,使得大功率设计的开关频率提升到100kHz左右,而小功率设计的开关频率可以高达10MHz。
1. 功率器件主要由硅材料制成,可以在几K到几MHz的频率范围内工作,功率最大可达几个千瓦。 2. 随着频率的增加,可支持的功率逐渐减小,频率越低可支持的功率越大。 3. 当硅器件使用超级结时,可以进一步提高功率范围和频率范围。 4. 当功率增加时,传统的MOSFET技术不再适用,需要使用IGBT或者GTO。 5. 宽近代半导体技术的发展,使得大功率设计的开关频率提升到100kHz左右,而小功率设计的开关频率可以高达10MHz。
01:50
禁带和宽禁带概念
禁带是指电子脱离原子、在材料中自由移动所需的最小能量。当电子的能量处于满带时,材料不能导电;需要将电子的能量提高到空带,才能开始导电。不同半导体材料的禁带宽度不同,例如:硅的禁带宽度为1.1eV,碳化硅的禁带宽度为3.3 eV,氮化镓的禁带宽度为3.4 eV。随着禁带宽度的增加,半导体器件能够实现更高的耐压,并减小特征电阻。碳化硅和氮化镓可以在相同的击穿电压下实现更小的导通电阻。
禁带是指电子脱离原子、在材料中自由移动所需的最小能量。当电子的能量处于满带时,材料不能导电;需要将电子的能量提高到空带,才能开始导电。不同半导体材料的禁带宽度不同,例如:硅的禁带宽度为1.1eV,碳化硅的禁带宽度为3.3 eV,氮化镓的禁带宽度为3.4 eV。随着禁带宽度的增加,半导体器件能够实现更高的耐压,并减小特征电阻。碳化硅和氮化镓可以在相同的击穿电压下实现更小的导通电阻。
03:34
氮化镓材料相比硅材料的优势
氮化镓材料对硅材料的主要优势包括:实现更小的门级电容和电荷,开关速度更快,驱动损耗更小;输出电容和电荷更低,适合高频应用,能够减小开关损耗;导通电阻更小,降低导通损耗;没有反向恢复问题,减小开关节点的震荡和EMI噪声。
氮化镓材料对硅材料的主要优势包括:实现更小的门级电容和电荷,开关速度更快,驱动损耗更小;输出电容和电荷更低,适合高频应用,能够减小开关损耗;导通电阻更小,降低导通损耗;没有反向恢复问题,减小开关节点的震荡和EMI噪声。
04:44
氮化镓材料相比硅材料的优势
我们比较了硅材料和氮化镓材料在不同开关频率下的器件损耗。氮化镓材料相比硅材料,可以减小导通损耗并降低开关损耗,从而在相同损耗情况下提供更高的开关频率。通过提高品质因素,氮化镓材料同时实现更小的导通电阻和开关损耗,并提高开关频率。这对于实现更高效率和更高的开关频率非常重要。
我们比较了硅材料和氮化镓材料在不同开关频率下的器件损耗。氮化镓材料相比硅材料,可以减小导通损耗并降低开关损耗,从而在相同损耗情况下提供更高的开关频率。通过提高品质因素,氮化镓材料同时实现更小的导通电阻和开关损耗,并提高开关频率。这对于实现更高效率和更高的开关频率非常重要。
05:24
基本 GaN MOSFET 的结构
GaN MOSFET 是基于氮化镓(GaN)材料的二维电子气。 这种二维电子气是一个良好的导体,可以在沟道中产生电流。 通过构建不同的门极设计,可以得到耗尽型和增强型的MOSFET。 在耗尽型MOSFET中,当门极和源极连接在一起时,二维电子气已经存在,器件处于导通状态。 在增强型MOSFET中,当门极和源极短路时,二维电子气不存在,MOSFET处于阻断状态。
GaN MOSFET 是基于氮化镓(GaN)材料的二维电子气。 这种二维电子气是一个良好的导体,可以在沟道中产生电流。 通过构建不同的门极设计,可以得到耗尽型和增强型的MOSFET。 在耗尽型MOSFET中,当门极和源极连接在一起时,二维电子气已经存在,器件处于导通状态。 在增强型MOSFET中,当门极和源极短路时,二维电子气不存在,MOSFET处于阻断状态。
07:43
氮化镓MOSFET的导通特性
1. 氮化镓MOSFET的导通特性是增强型和耗尽型两种。 2. 耗尽型氮化镓MOSFET是一个长通器件,当门级电压为0时导通。 3. 为了解决耗尽型氮化镓MOSFET的长通问题,常使用串联结构控制。 4. 氮化镓MOSFET的导通和关断可通过控制门级电压来实现。 5. 氮化镓MOSFET的反向导通特性类似于二极管,但门槛电压比二极管高。
1. 氮化镓MOSFET的导通特性是增强型和耗尽型两种。 2. 耗尽型氮化镓MOSFET是一个长通器件,当门级电压为0时导通。 3. 为了解决耗尽型氮化镓MOSFET的长通问题,常使用串联结构控制。 4. 氮化镓MOSFET的导通和关断可通过控制门级电压来实现。 5. 氮化镓MOSFET的反向导通特性类似于二极管,但门槛电压比二极管高。

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近代半导体技术及其应用
1. 功率器件主要由硅材料制成,可以在几K到几MHz的频率范围内工作,功率最大可达几个千瓦。 2. 随着频率的增加,可支持的功率逐渐减小,频率越低可支持的功率越大。 3. 当硅器件使用超级结时,可以进一步提高功率范围和频率范围。 4. 当功率增加时,传统的MOSFET技术不再适用,需要使用IGBT或者GTO。 5. 宽近代半导体技术的发展,使得大功率设计的开关频率提升到100kHz左右,而小功率设计的开关频率可以高达10MHz。
1. 功率器件主要由硅材料制成,可以在几K到几MHz的频率范围内工作,功率最大可达几个千瓦。 2. 随着频率的增加,可支持的功率逐渐减小,频率越低可支持的功率越大。 3. 当硅器件使用超级结时,可以进一步提高功率范围和频率范围。 4. 当功率增加时,传统的MOSFET技术不再适用,需要使用IGBT或者GTO。 5. 宽近代半导体技术的发展,使得大功率设计的开关频率提升到100kHz左右,而小功率设计的开关频率可以高达10MHz。
01:50
禁带和宽禁带概念
禁带是指电子脱离原子、在材料中自由移动所需的最小能量。当电子的能量处于满带时,材料不能导电;需要将电子的能量提高到空带,才能开始导电。不同半导体材料的禁带宽度不同,例如:硅的禁带宽度为1.1eV,碳化硅的禁带宽度为3.3 eV,氮化镓的禁带宽度为3.4 eV。随着禁带宽度的增加,半导体器件能够实现更高的耐压,并减小特征电阻。碳化硅和氮化镓可以在相同的击穿电压下实现更小的导通电阻。
禁带是指电子脱离原子、在材料中自由移动所需的最小能量。当电子的能量处于满带时,材料不能导电;需要将电子的能量提高到空带,才能开始导电。不同半导体材料的禁带宽度不同,例如:硅的禁带宽度为1.1eV,碳化硅的禁带宽度为3.3 eV,氮化镓的禁带宽度为3.4 eV。随着禁带宽度的增加,半导体器件能够实现更高的耐压,并减小特征电阻。碳化硅和氮化镓可以在相同的击穿电压下实现更小的导通电阻。
03:34
氮化镓材料相比硅材料的优势
氮化镓材料对硅材料的主要优势包括:实现更小的门级电容和电荷,开关速度更快,驱动损耗更小;输出电容和电荷更低,适合高频应用,能够减小开关损耗;导通电阻更小,降低导通损耗;没有反向恢复问题,减小开关节点的震荡和EMI噪声。
氮化镓材料对硅材料的主要优势包括:实现更小的门级电容和电荷,开关速度更快,驱动损耗更小;输出电容和电荷更低,适合高频应用,能够减小开关损耗;导通电阻更小,降低导通损耗;没有反向恢复问题,减小开关节点的震荡和EMI噪声。
04:44
氮化镓材料相比硅材料的优势
我们比较了硅材料和氮化镓材料在不同开关频率下的器件损耗。氮化镓材料相比硅材料,可以减小导通损耗并降低开关损耗,从而在相同损耗情况下提供更高的开关频率。通过提高品质因素,氮化镓材料同时实现更小的导通电阻和开关损耗,并提高开关频率。这对于实现更高效率和更高的开关频率非常重要。
我们比较了硅材料和氮化镓材料在不同开关频率下的器件损耗。氮化镓材料相比硅材料,可以减小导通损耗并降低开关损耗,从而在相同损耗情况下提供更高的开关频率。通过提高品质因素,氮化镓材料同时实现更小的导通电阻和开关损耗,并提高开关频率。这对于实现更高效率和更高的开关频率非常重要。
05:24
基本 GaN MOSFET 的结构
GaN MOSFET 是基于氮化镓(GaN)材料的二维电子气。 这种二维电子气是一个良好的导体,可以在沟道中产生电流。 通过构建不同的门极设计,可以得到耗尽型和增强型的MOSFET。 在耗尽型MOSFET中,当门极和源极连接在一起时,二维电子气已经存在,器件处于导通状态。 在增强型MOSFET中,当门极和源极短路时,二维电子气不存在,MOSFET处于阻断状态。
GaN MOSFET 是基于氮化镓(GaN)材料的二维电子气。 这种二维电子气是一个良好的导体,可以在沟道中产生电流。 通过构建不同的门极设计,可以得到耗尽型和增强型的MOSFET。 在耗尽型MOSFET中,当门极和源极连接在一起时,二维电子气已经存在,器件处于导通状态。 在增强型MOSFET中,当门极和源极短路时,二维电子气不存在,MOSFET处于阻断状态。
07:43
氮化镓MOSFET的导通特性
1. 氮化镓MOSFET的导通特性是增强型和耗尽型两种。 2. 耗尽型氮化镓MOSFET是一个长通器件,当门级电压为0时导通。 3. 为了解决耗尽型氮化镓MOSFET的长通问题,常使用串联结构控制。 4. 氮化镓MOSFET的导通和关断可通过控制门级电压来实现。 5. 氮化镓MOSFET的反向导通特性类似于二极管,但门槛电压比二极管高。
1. 氮化镓MOSFET的导通特性是增强型和耗尽型两种。 2. 耗尽型氮化镓MOSFET是一个长通器件,当门级电压为0时导通。 3. 为了解决耗尽型氮化镓MOSFET的长通问题,常使用串联结构控制。 4. 氮化镓MOSFET的导通和关断可通过控制门级电压来实现。 5. 氮化镓MOSFET的反向导通特性类似于二极管,但门槛电压比二极管高。




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2023-05-07 13:29:56
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